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NKT5200-H

執行標準:GB/T19077-2016/ISO 13320:2009

外觀尺寸:800mm×280mm×335mm

產品特點:

激光智能管理系統

進口Opnext大功率光纖輸出半導體激光器

超速采集主板?

雙鏡頭技術(傅里葉鏡頭、濾波鏡頭)

樣品窗鍍膜工藝

70通道均勻交叉及面積補償多方位陣列

誤操作保護功能

分散劑自動加注系統


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產品概述Product Overview

NKT5200-H采用國際最先進的Mie氏散射原理和會聚光傅立葉變換光路,傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭雙鏡頭技術的采用保證了儀器的測量精度,高密度陣列探頭及全量程無縫銜接測試方法,保證了測試結果的準確性和重復性。獨特的濕法循環分散系統采取了管道無殘留設計,保證顆粒測試過程中無顆粒沉積現象,測試排水后無廢液積存現象,不但保證了測試不同樣品的準確性,還保證了第二次測試精度,使測試結果更真實可靠。

適用范圍 Scope Of Application

NKT5200-H激光粒度儀被廣泛應用于各種金屬、非金屬粉:如重鈣、輕鈣、滑石粉、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏土、二氧化硅、石榴石、硅酸鋯、氧化鋯、氧化鎂、氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫藥、農藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙填料涂料、各種乳液等

產品參數 Product Parameters

測量原理全量程激光衍射
粒徑范圍0.1μm-1000μm
探測系統70通道均勻交叉及面積補償多方位陣列
激? 光? 器進口大功率光纖輸出半導體激光器,波長635nm,功率最大20毫瓦
激光管理LIMS激光智能管理系統
光學模型全量程米氏散射理論,包含高濃度多重散射動態補償技術
濾波方式雙鏡頭濾波技術,傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭
采集主板高速采集主板(10000次/秒)
濃度范圍最低遮光度3%,最高遮光度90%(光學濃度)
樣? 品? 池特殊鍍膜工藝處理,光信號透過率>99.7%
保護功能超聲防干燒、液位傳感器、溢流管、誤操作無響應
超聲功率50W、可選配功率可調、超聲防干燒
對中系統機械中心+光學中心雙定位全自動對中系統
測量時間典型值<10秒
測量精度準確性、重復性Dv50均優于±0.5%(NIST可溯源標準樣品)
測量方式SOP可編輯全自動測量
環境溫度0°C-45°C
環境濕度10%-85%相對濕度(無結凝)
電源要求220V(±20V),50Hz–60Hz
執行標準GB/T19077-2016/ISO 13320:2009
外觀尺寸800mm×280mm×335mm
儀器重量38kg

詳細技術參數? ? 請與銷售部聯系

技術詳解 Technical Explanation

激光智能管理系統?? 儀器使用國際先進的激光智能管理系統,實時監測儀器的工作狀態,一旦接收到工作的命令智能管理系統會瞬間點亮激光器,高性能激光器會在3秒內達到穩定的工作狀態。樣品測試完畢后智能管理系統會自動關閉激光器,激光器基本上不會衰減,理論上粒度儀可以終身不需要更換激光器。
全智能操作模式???? 點擊運行SOP(可編輯)即可自動完成進水、排氣泡、背景采集、樣品分散、采集測量數據、保存、清洗等所有功能,操作人員只需放待測樣品,測試結果不受人為因素影響。
誤操作保護功能???? 儀器具有誤操作儀器無響應功能,超聲防干燒功能,水過量溢出功能。
自動加注分散劑功能????? 部分樣品具有較強的團聚性,需加某些特定的分散劑,人工加注或多或少無法定量,自動加注系統會按需定量加注分散劑,測量結果穩定準確。
雙鏡頭技術?? 傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭單光路雙鏡頭技術的采用,可有效的過濾掉光信號非必要的雜散光,可獲取到更純凈的光學背景,提高測量靈敏度。
超高速主板??? 高速主板,10000次/秒的采樣速度,樣品在激光光束中 0.1s即可得出準確結果。
防塵防震????? 儀器的防震處理使儀器具有了更穩定的光路系統,探測器無需調整。
樣品無殘留設計? 儀器管道及排水結構進行了優化設計,儀器管道、采用專利技術的循環泵內無積液殘留,避免對下一次測試數據的影響。
樣品窗快速更換?? 全新設計的樣品窗快換裝置,使樣品窗更換更方便快捷(10秒鐘即可完成樣品窗的拆裝過程)。

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